在真空鍍膜過程中，進行弧光清洗和輝光清洗可以有效地準備基材表面，確保涂層的附著力和質(zhì)量。這兩種清洗方法可以在真空環(huán)境中進行，以確保在涂覆涂層之前金屬表面的清潔度和光滑度。

1.弧光清洗：在真空環(huán)境中進行弧光清洗時，利用電弧放電產(chǎn)生的高溫和高能量來清除基材表面的污垢、氧化物和其他不良物質(zhì)。這種方法可以在表面產(chǎn)生較高的溫度，有助于徹底清除表面的污染物，提高涂層的附著力。

2.輝光清洗：輝光清洗則是利用高頻交流電場產(chǎn)生的電子流來清洗基材表面。在真空環(huán)境中，輝光清洗可以以較溫和的方式清除表面的污垢和氧化物，而不會產(chǎn)生過高的溫度。這種方法適用于對溫度敏感的基材和涂層。

在真空鍍膜過程中，通過弧光清洗和輝光清洗可以有效地準備基材表面，提高涂層的附著力和質(zhì)量。選擇使用哪種清洗方法取決于具體的涂層材料、基材材料以及所需的清潔度和表面質(zhì)量要求。