常規(guī)配置真空系統(tǒng)

真空泵：2X-70 SV300 E2M275 增壓泵： ZJP600 WAU2001 EH1200/EH2600

高真空泵：分子泵低溫泵擴散泵

真空室加熱系統(tǒng)最高溫度：0到400℃

型號：不銹鋼管裝加熱器(選擇：紅外線燈管)

基片架盤型號：球面型(選擇：平面型，公自轉，多行星型，可調角度行星盤)轉速：0到30轉數/分軟啟，軟停，可調速

電器控制系統(tǒng)：PC和PLC控制

VAC系統(tǒng)：進口復合真空計

MFC系統(tǒng)：進口質量流量控制器；進口電磁閥

APC系統(tǒng)：工藝氣體自動恒壓控制系統(tǒng)

鍍膜沉積控制系統(tǒng)：晶控美國產IC-6,XTC-3S/M,INFICON310。

石英晶體感應器：1,2,6頭

光控控制國產光控(或進口光控)

離子源：霍兒源(或考夫曼，RF源)

電子束源：10KW180°或270°電子槍

深冷系統(tǒng)：真空室麥斯納阱擴散泵冷阱

全程自動控制鍍膜以達到產品最終所需要.