常規(guī)配置真空系統(tǒng)

真空泵：2X-70 SV300 E2M275

增壓泵：ZJP300 WAU1001 EH1200

高真空泵：分子泵低溫泵擴(kuò)散泵

真空室加熱系統(tǒng)溫度：0到400℃

型號(hào)：不銹鋼管裝加熱器(選擇：紅外線燈管)

基片架盤(pán)型號(hào)：球面型(選擇：平面型，公自轉(zhuǎn)，多行星型，可調(diào)角度行星盤(pán))轉(zhuǎn)速：0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟，軟停，可調(diào)速

電器控制系統(tǒng)：PC和PLC控制

VAC系統(tǒng)：進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)

MFC系統(tǒng)：進(jìn)口質(zhì)量流量控制器；進(jìn)口電磁閥

APC系統(tǒng)：工藝氣體自動(dòng)恒壓控制系統(tǒng)

鍍膜沉積控制系統(tǒng)：晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310。

石英晶體感應(yīng)器：1,2,6頭

光控控制國(guó)產(chǎn)光控(或進(jìn)口光控)

離子源：霍兒源(或考夫曼，RF源)

電子束源：10KW180°或270°電子槍

深冷系統(tǒng)：真空室麥斯納阱擴(kuò)散泵冷阱

全程自動(dòng)控制鍍膜以達(dá)到產(chǎn)品所需要求