磁控濺射真空鍍膜機濺射是物理氣相沉積技術(shù)的另一種方式，濺射的過程是由離子轟擊靶材表面，使靶材材料被轟擊出來的技術(shù)。惰性氣體，如氬氣，被充入真空腔內(nèi)，通過使用高電壓，產(chǎn)生輝光放電，加速離子到靶材表面，氬離子將靶材材料從表面轟擊（濺射）出來，在靶材前的工件上沉積下來，通常還需要用到其它氣體，如氮氣和乙炔，和被濺射出來的靶材材料發(fā)生反應(yīng)，形成化合物薄膜。濺射技術(shù)可以制備多種涂層，在裝飾涂層上具有很多優(yōu)點（如Ti、Cr、Zr和碳氮化物），因為其制備的涂層非常光滑，這個優(yōu)點使濺射技術(shù)也廣泛應(yīng)用于汽車市場的摩擦學領(lǐng)域（例如，CrN、Cr2N及多種類金剛石（DLC）涂層）。能量離子轟擊靶材，提取原子并將它們轉(zhuǎn)化為氣態(tài)，利用磁控濺射技術(shù)，可以對大量材料進行濺射。

 磁控濺射真空鍍膜機技術(shù)的優(yōu)點：

+ 靶材采用水冷，減少熱輻射

+ 不需要分解的情況下，幾乎任何金屬材料都可以作為靶材濺射

+ 絕緣材料也可以通過使用射頻或中頻電源濺射

+ 制備氧化物成為可能（反應(yīng)濺射）

+ 良好的涂層均勻性

+ 涂層非常光滑（沒有液滴）

+ 陰極（最大2m長）可以放置在任何位置，提高了設(shè)備設(shè)計的靈活性