本公司生產(chǎn)的高真空PVD硬質(zhì)鍍膜機鍍膜裝置，在真空室中利用多支單元金屬柱弧靶混合鍍制不同比例的多元陶瓷功能膜，汽化了的金屬分子沉積于基片上 而獲得光滑高反射率的膜層 達到裝飾美化物品表面的目的。

    該設備具有 結構合理、膜層均勻、成鏡質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)效率高、操作方便，占地面積小,本產(chǎn)品電器部分采用PLC系統(tǒng)程序控制.性能穩(wěn)定.蒸發(fā)穩(wěn)定.能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。是目前汽車燈具、電子產(chǎn)品、光學產(chǎn)品、裝飾品、玩具、塑料陶瓷行業(yè)。

   PVD真空鍍膜機是一種高科技的表面處理設備，它采用相沉積技術，將金屬或非金屬材料蒸發(fā)成氣態(tài)，通過真空離子束或電弧等方式沉積在基材表面，形成一層薄膜。該技術廣泛應用于電子、光學、機械、化工等領域，具有節(jié)能等優(yōu)點。

PVD真空鍍膜機主要由真空室、電源系統(tǒng)、蒸發(fā)源、離子源、控制系統(tǒng)等組成。真空室是整個設備的部分，它提供了一個真空，使得蒸發(fā)源和離子源能夠在無氧、無水、無塵的下工作。電源系統(tǒng)提供了蒸發(fā)源和離子源所需的電能，使其能夠產(chǎn)生高溫、高壓量的離子束或電弧，從而實現(xiàn)材料的蒸發(fā)和沉積。蒸發(fā)源是將材料加熱至其沸點，使其蒸發(fā)成氣態(tài)的裝置，通常采用電阻加熱或電子束加熱的方式。離子源則是通過電子轟擊或離子轟擊等方式產(chǎn)生離子束，用于薄膜的質(zhì)量和性能。

PVD真空鍍膜機的工作原理是將基材放置在真空室內(nèi)，通過泵抽出空氣，使得真空度達到的要求。然后，將蒸發(fā)源和離子源加熱至溫度，使其產(chǎn)生蒸汽和離子束。蒸汽和離子束在真空室內(nèi)擴散，沉積在基材表面，形成一層薄膜。整個過程需要嚴格控制溫度、壓力、離子束能量等參數(shù)，以保證薄膜的質(zhì)量和性能。

PVD真空鍍膜機具有許多優(yōu)點。它能夠在無氧、無水、無塵下工作，避免了雜質(zhì)的污染和氧化的影響，從而保證了薄膜的質(zhì)量和穩(wěn)定性。其次，PVD技術可以制備出多種材料的薄膜，包括金屬、非金屬、合金、氧化物、氮化物等，具有廣泛的應用前景。此外，PVD技術還可以制備出具有功能的薄膜，如防反射、硬質(zhì)、導電、隔熱等，為各種應用提供了更多的選擇。

總之，PVD真空鍍膜機是一種節(jié)能的表面處理設備，具有廣泛的應用前景。隨著科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展，PVD技術將會在更多的領域得到應用，為人類的發(fā)展和進步做出更大的貢獻。